离子镀技术必须具备的三个条件

一、离子镀技术必须具备的三个条件

是科学成果

二、离子镀原理图

区别如下：

1、处理方法不同 电镀是将待电镀材料作为阴极，与镀层金属的相同的金属材料作为阳极（亦有采用不溶性阳极），电解液为含有的镀层金属离子的溶液；阳极与阴极间输入一定的电流。 阳极氧化利用化学或电化学处理，使金属表面生成一种含有该金属成份的皮膜层。作为阳极的金属材料在特定的电解液中通过外加电流使其表面形成膜层的一种材料保护。

2、处理对象不同 电镀方法处理的对象主要是金属与非金属的表面处理的方法。最常使用的电镀金属为镍、铬、锡、铜、银及金等。 阳极氧化处理则是金属表面处理的方法。大多数金属材料（如不锈钢、锌合金、铝合金、镁合金、铜合金、钛合金）都可以在适宜的电解液中进行阳极氧化处理。

3、处理原理不同 电镀是由于电荷效应，金属阳极离子向阴极移动，并在阴极得到电子而沉积在待镀材料上。同时阳极的金属溶解，不断补充电解液中的金属离子。 阳极氧化是利用铝合金其易氧化之特性，藉电化学方法控制氧化层之生成，以防止铝材进一步氧化，同时增加表面的机械性。 ：：电镀 ：：阳极氧化

三、离子镀是什么

不一样

电镀是把欲镀金属离子镀在零件上，而氧化是通过亚硝酸盐在零件表面生成一种氧化膜，防腐性能上不如电镀，但是氧化的成本低，设备也简单

1、氧化是自身的金属氧化物附着在表面，电镀是其他金属附着在表面。金属的氧化是指作为阳极的金属材料在特定的电解液中通过外加电流使其表面形成膜层的一种材料保护技术。大多数金属材料（如不锈钢、锌合金、铝合金、镁合金、铜合金、钛合金）都可以在适宜的电解液中进行阳极氧化处理。

2、电镀是指利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺，从而起到防止金属氧化（如锈蚀），提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性（硫酸铜等）及增进美观等作用。

四、离子镀原理

电镀需要一个向电镀槽供电的低压大电流电源以及由电镀液、待镀零件(阴极)和阳极构成的电解装置。其中电镀液成分视镀层不同而不同，但均含有提供金属离子的主盐，能络合主盐中金属离子形成络合物的络合剂，用于稳定溶液酸碱度的缓冲剂，阳极活化剂和特殊添加物（如光亮剂、晶粒细化剂、整平剂、润湿剂、应力消除剂和抑雾剂等）。

电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下，经电极反应还原成金属原子，并在阴极上进行金属沉积的过程。因此，这是一个包括液相传质、电化学反应和电结晶等步骤的金属电沉积过程。

五、离子镀的书籍值钱吗

一、优点：纳米镜面喷镀技术采用专用设备和先进的材料，可以在各种塑料制品、树脂、金属及玻璃、陶瓷、木材、复合材料等各种材料上做出黄金、红金、24K金、白金、银、圣诞红、嫩绿、宝石蓝、青古铜、红古铜、黑色、棕色等100多种高亮度镜面效果。经纳米镜面喷镀技术处理后的制品，具有优异的环保性、附着性、耐气候性、耐磨性和耐冲击性等，符合国内外大型精密产品生产商的要求，亦可作为其它行业的表面装饰。

二、缺点：环保纳米喷镀技术的缺点就是硬度不如水电镀，这一点也是可以理解的，毕竟电镀是金属离子，纳米喷镀只是一种特种的涂料。但是纳米喷镀的亮度却比电镀要好，能够达到镜面效果。附着力方面也是过了国家的百格测试，各个方面的效果比传统的喷涂设备要好很多。

六、离子镀优点

PVD:物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。 PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。

PVD技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层;PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

七、离子镀的应用

磁控溅射的磁场主要是用来束缚电子，保持辉光效应持续存在，多弧离子镀的磁场主要是为了控制弧斑点的移动，使靶材被均匀利用，磁控溅射溅射出来的主要是原子，而离子镀经过离化后 到达基本附近的主要是离子，基体负偏压主要是为了能够使得靶材激发的离子获得更大的速度轰击沉积到基材的表面进行镀层，所以，基体负偏压对多弧离子镀的影响要远远大于磁控溅射的沉积方式。

八、离子镀的缺点

edta溶液是一种优良的络合剂，能与大部分金属离子形成稳定的络合剂。只有碱金属等少数金属离子无法与edta稳定的络合。因此在电镀中，常以edta溶液作为杂质金属离子的掩蔽剂。

edta也常在电镀工艺中，用于清洗剂，将镀层表面的金属杂质离子清洗干净。也可以与酸和氧化剂配合，用于电镀前的酸洗活化工序。

九、离子镀的适用范围

离子镀是真空镀膜工艺的一项新发展。普通真空镀膜(亦称真空蒸镀)时，工件夹固在真空罩内，当高温蒸发源通电加热后，促使待镀材料——蒸发料熔化蒸发。

由于温升，蒸发料粒子获得一定动能，则沿着视线方向徐徐上升，最后附着于工件表面上堆积成膜。

用这种工艺形成的镀层，与零件表面既无牢固的化学结合，有无扩散连接，附着性能很差，有时就像桌面上落的灰尘一样，用手一摸也会擦掉